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東京, 2018年3月26日 - (JCN Newswire) - 昭和電工株式会社（社長：森川 宏平）は、半導体製造工程で使用される高純度臭化水素（HBr）の生産設備増強工事を完了し、今月より生産を開始しました。
高純度HBrはDRAMやNAND型フラッシュメモリ等の半導体製造工程において、ポリシリコンの微細加工（エッチング）に使用される特殊ガスです。IoT、ビッグデータ、自動運転といったデジタライゼーションの加速化で半導体市場はますます拡大し、それに合わせ高純度HBrの需要も拡大しております。
当社は、川崎事業所にて年産600トンの合成・精製生産設備を有しておりますが、高稼働が継続していることから、さらなる需要増を見込み、今般、年産能力を1.5倍の900トンに増強しました。
当社の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高い評価をいただいています。また当社はフッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業として、お客様の製造工程に最適なガスを提案いたします。
当社は、現在推進中の中期経営計画"Project 2020＋"において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけております。当社は今後も、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図ってまいります。
本リリースの詳細は下記URLをご参照ください。
http://www.sdk.co.jp/news/2018/16059.html
概要：昭和電工株式会社
詳細は www.sdk.co.jp をご覧ください。
本件に関するお問合せ先：
昭和電工株式会社
広報室
03-5470-3235
トピック: Press release summary
Source: Showa Denko K.K.
セクター: Electronics
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