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2013年8月12日 10時00分
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Source: Rolith, Inc.
Rolith公司展示了使用專利毫微光刻技術製造的ITO替代材料透明金屬網格電極的出色性能

PLEASANTON, CA, 2013年8月12日 - (亞太商訊) - Rolith公司是高級納米設備開發的領導者,日前宣布成功展示了採用破壞性毫微光刻方法(滾動掩模光刻– RML(TM))的金屬網格電極技術。

我們看到用於消費電子市場的觸摸顯示屏出現了爆炸性增長。到目前為止,ITO(銦鈦氧化物)材料是用於透明電極的標準解決方案。除了成本過高和材料供應有限之外,它還存在其他問題:這種材料的高反射率降低了對比率、光學性質極快降級至50 Ω/☐以下,從而限制了使用ITO生產而不使性能降級的顯示屏大小。

ITO的唯一可行替代材料(和大型觸摸顯示屏的唯一解決方案)是金屬線網格。對金屬線網格的要求是人眼無法看到,這意味著線寬要小於2微米。此外,窄線有助於應對摩爾效應,金屬線網格的疊加和顯示屏的像素結構會造成這一效應。

Rolith公司採用了名為滾動掩模光刻(RML(TM)) 的專利毫微光刻技術,以製造用於大型基材的透明金屬線網格電極。 RML基於近場連續光學光刻,使用圓柱相掩模進行操作。

玻璃基材上的透明金屬電極以亞微米寬納米線的形式製造,以數十微米的間隔光刻到規則的2維網格圖案,厚度為幾百毫微米。經過檢測,人眼無法看到此類金屬結構,極為透明(超過94%的傳遞),霧度極低(~2%),同時電阻率低(<14 Ohm/☐)。這組參數使得Rolith技術領先於ITO替代技術的所有主要競爭技術。

第2代RML工具能夠製造最多1 m長的基材。今年早些時候製造的工具已被用於展示這一技術。

“Rolith僅在幾個月前推出其透明金屬網格電極應用開發,我們對目前達到的結果感到非常興奮。我們相信,我們的突破性技術將為移動設備和大格式顯示屏、監視器和電視帶來經濟高效的高質量觸摸屏。目前,Rolith正與一些觸摸顯示屏製造商討論有關合作事項,預計在未來1年內將技術商業化。我們的路線圖還包括於2014-2015年將這一技術用於柔性基材。”公司創始人兼首席執行官Boris Kobri博士表示。他補充道:“Rolith將在國際觸控面板暨光學膜展會(“Touch Taiwan 2013”)(展台是N126)和2013年美國印刷電子展覽會(展台是AA18)上展出其突破性技術。”

關於 Rolith 公司

Rolith 公司運用獨有的納米光刻技術,為家用電子產品、太陽能市場和綠色建築市場生產高級納米結構產品。 Rolith 由Boris Kobrin 博士、Mark Brongersma 教授以及Julian Zegelman 及教授於2008年創立,目前公司位於加州普萊桑頓。公司在納米光刻、物質沉積和蝕刻方法以及納米光電子設備領域持有全面的專利組合。 Rolith 的戰略合作夥伴包括SUSS MicroTec AG 和Asahi Glass Company Ltd.。公司當前的投資者包括Draper Fisher Jurvetson 的附屬基金DFJ VTB Capital Aurora(由VTB Capital 負責管理),以及Asahi Glass Group 的附屬風投公司AGC America 。 www.rolith.com

媒體聯繫

EASTWEST PR for Rolith, Inc.(ASIA)
Melinda Ilagan / Grace Yu
rolith@eastwestpr.com
+65-6222-0306

Rolith 公司
Boris Kobrin 博士
創始人兼首席執行官
info@rolith.com
+1-925-548-6064

Topic: Press release summary
Source: Rolith, Inc.

Sectors: Electronics, Science & Research, Optoelectronics
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