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2016年2月4日 13時35分 JST
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Source: Showa Denko K.K.
昭和電工、高純度三塩化ホウ素の製造拠点増強を決定
液晶パネルの需要拡大に対応

東京, 2016年2月4日 - (JCN Newswire) - 昭和電工株式会社(社長:市川 秀夫)は、電子材料製造用特殊ガスのひとつである高純度三塩化ホウ素(BCl3)の生産能力を従来の1.5倍に引き上げることを決定しました。

高純度BCl3は、液晶パネルやシリコン半導体の製造工程において、アルミ配線の微細加工(エッチング)に使用される特殊ガスです。近年、アルミ配線を使用する有機EL(OLED)パネルや低温ポリシリコン(LTPS)液晶パネルへの投資が相次いでおり、今後も安定的な需要が予想されることから、今回、川崎事業所の製造設備の増強を決定し、本年3月に稼働を開始します。

当社の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高い評価をいただいています。また当社はフッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業で、各製造工程に合わせたガスを提案します。

当社は、現在推進中の中期経営計画“Project 2020+”において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけております。当社は引き続き、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図ってまいります。

本リリースの詳細は下記URLをご参照ください。
http://www.sdk.co.jp/news/2016/14074.html

概要:昭和電工株式会社

詳細は www.sdk.co.jp をご覧ください。

本件に関するお問い合わせ先
昭和電工株式会社
広報室
03-5470-3235

トピック: Press release summary
Source: Showa Denko K.K.

セクター: Chemicals, Spec.Chem
https://www.acnnewswire.com
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